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小程序:深圳超声波清洗机
公众号:科达超声波清洗机
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2018年1月18日,由江西吉安井冈山经开区、合力泰科技股份有限公司和江西益丰泰光电技术有限公司共同承办的江西智能光电产业论坛在吉安宾馆会议中心举行。深圳市科达超声自动化设备有限公司作为光学超声清洗设备国内重要制造商,合力泰集团重要清洗设备供应商,公司总经理刁忠宪受邀参加了此次论坛。这是一次企业精英和金融专家的高端对话,市委副书记、市长王少玄出席并会见部分参会客商。市委常委、副市长张言苍,副市长邓淑斌,井冈山经开区领导彭学凯参加。  会前,与会客商还实地参观了合力泰吉州工厂、TFT面板项目建设现场及合力泰井开区东区工厂。
发布时间: 2018 - 01 - 22
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发布时间: 2013 - 05 - 13
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2017年12月15日,首届核电厂设施去污与清洗技术研讨会在上海中广核电技术研发中心举行,参与会议的均为中国核电的骨干企业:如上海核工院、山东核电、中广核、大亚湾核电、阳江核电、江苏核电等近二十家几乎囊括了国内所有核电的相关企业,深圳市科达超声自动化设备有限公司作为超声波清洗设备企业代表,受邀参加了此次研讨会。会议就“去污技术在核电领域的应用”“超声波联合去污工艺在反应堆冷却剂泵的应用”等议题进行了广泛深入的探讨,阳江核电姚志猛,中核核电侯东、武汉核电胡卉桦、大亚湾核电易金河、田湾核电李康、山东核电李强等企业代表分别发表了相关议题的观点。这次会议,是科达公司更加深入了解到核电企业当前面临的清洗问题,并和国内的各大核电企业建立了友好的合作关系。会后,科达公司受邀秦山核电二期,前往解决清洗问题,产生了非常好的联动效应。
发布时间: 2017 - 12 - 18
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适用范围: 电子零件、电镀、五金、钟表、机械、表带、工具、光学镜片、珠宝首饰、镜片、眼镜架、半导体硅片、喷丝板过滤芯及玻璃器皿等的清洗。全进口加厚不锈钢耐酸碱,美观耐用; 特点:                   1.日本高Q值振子,超声功率强劲; 2.自动恒温系统30-110℃可调节; 3.二十四小时连续工作,适应大批量生产; 4.先进的第三代发生器,效率更好、频率更高、品质更好; 5、40KHZ、68KHZ、80KHZ、170KHZ、1000KHZ、效果更好。 6、单频、双频、三频调节、满足不同要求。 科达自动化超声波清洗设备公司是一家集研发、生产、销售于一体的超声波清洗机生产厂家。主要生产超声波清洗机、玻璃减薄机、工业纯水设备、工业清洗设备等超声波清洗设备。咨询热线:0755-8171-9998 。
发布时间: 2013 - 05 - 10
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深圳市科达超声自动化设备有限公司科研部门精诚合作,攻克行业新技术、清洗高端项目的理念,先后与重庆大学,华南理工大学合作,在行业率先开发首款智能超声发生器、玻璃减薄设备、iPhone手机部品PVD清洗设备等,在行业内具有领先技术的自动化智能设备,在科达公司的发展中取得了辉煌的成果。 此次与台山核电合作,是在行业近十家超声企业中通过竞争脱颖而出,最后获得了台山核电热交换器管束的清洗项目。次项目有巨大的技术难点:产品体积巨大、产品结构复杂;将产品上的脏污及锈迹清除的同时,不得对产品有任何腐蚀作用;清洗后工件检验标准非常严格等等。 在接到台核的通知后,科达公司总经办及科研部门高度重视,在无数次的科学实验中采集了大量的数据,并与中外核电专家进行了反复的论证,最终提炼出完美的清洗方案,并在实际操作中一次性取得圆满成功。 此项目的成功施行,完美的解决了热交换管束的脏污及生锈问题,搬离了近两年压在台核人心头沉甸甸的大山,挽回了台核有可能出现的巨大损失。科达公司为核电事业贡献了微薄之力。 同时,科达公司也成为了首家进入核电领域的清洗设备厂家。
发布时间: 2015 - 09 - 24
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在半导体材料的制备过程中,每一道工序都涉及到清洗,而且清洗的好坏直接影响下一道工序,甚至影响器件的成品率和可靠性。由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的减小,对于晶片表面沾污的要求更加严格,ULSI工艺要求在提供的衬底片上吸附物不多于500个/m2×0.12um,金属污染小于 1010atom/cm2。晶片生产中每一道工序存在的潜在污染,都可导致缺陷的产生和器件的失效。因此,硅片的清洗引起了专业人士的重视。以前很多厂家都用手洗的方法,这种方法人为的因素较多,一方面容易产生碎片,经济效益下降,另一方面手洗的硅片表面洁净度差,污染严重,使下道工序化抛腐蚀过程中的合格率较低。所以,硅片的清洗技术引起了人们的重视,找到一种简单有效的清洗方法是当务之急。本文介绍了一种超声波清洗技术,其清洗硅片的效果显著,是一种值得推广的硅片清洗技术。 硅片表面污染的原因 晶片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏而成为悬空键,形成表面附近的自由力场,尤其磨片是在铸铁磨盘上进行,所以铁离子的污染就更加严重。同时,由于磨料中的金刚砂粒径较大,造成磨片后的硅片破损层较大,悬挂键数目增多,极易吸附各种杂质,如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子、硅粉粉尘等,造成磨片后的硅片易发生变花、发蓝、发黑等现象,使磨片不合格。硅片清洗的目的就是要除去各类污染物,清洗的洁净程度直接决定着ULSI向更高集成度、可靠性、...
发布时间: 2013 - 01 - 28
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